? 臺式無掩模直寫
? 業內性價比極高
? 多個讀寫頭配置
? 簡單好用易上手
臺式無掩膜激光直寫光刻機
? 全球知名微納加工中心選擇
? 直寫光刻領域歷史悠久品牌
? 獨特的平行四讀寫頭設計
? 靈活可定制化大面積選擇
Microtech無掩模直寫光刻系統
? 無掩膜ALD原子層沉積
? 多達450種可用材料
? 可達0.1nm膜厚分辨率
? ALD直寫沉積打印
無掩膜ALD原子層直寫沉積系統
? DGLD激光玻璃直寫沉積
? 可塑性超強的增材技術
? 兼容微尺度到宏觀尺度
? 極高粗糙度及高性價比
微尺度激光熔融玻璃3D打印機
? 新一代超高速ALD技術
? 原位復合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級PEALD等離子增強
Swiss Cluster ALD超高速原子層沉積系統
? 新一代高速ALD技術
? 原位復合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級PEALD等離子增強
Swiss Cluster ALD/PVD原位復合原子層沉積系統
? 新一代超高速ALD技術
? 原位復合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級PEALD等離子增強
Swiss Cluster工業級超高速ALD原子層沉積系統
? 磁控濺射鍍膜
? 有機物低溫金屬沉積
? 電子束蒸鍍
? 熱蒸發
英國Korvus多模塊復合薄膜沉積系統
? 大于5000mm2/min效率
? 可達0.5um刻寫線寬精度
? 可達0.5um校準對位精度
? 最大可加工到12英寸尺寸
高速高分辨無掩模直寫光刻機
? 皮秒短脈沖PLD薄膜沉積
? 源頭遏制微粒及飛濺現象
? PulseLion全固態鋰電技術
? LISA鋰硫電池項目技術
Pulsedeon脈沖激光薄膜沉積系統
? Sputter多靶磁控濺射
? Evaporator多源熱蒸發
? PLD激光脈沖沉積
? 多種鍍膜工藝一體化
Vac Coat多靶磁控濺射薄膜沉積系統
? 臺式對準光刻機
? 業內性價比很高
? 搭配多個光學物鏡
? 性能穩定易上手
臺式Maskaligner對準光刻機
? 基于PDMS制備3D微流控
? 實驗室科研及產業大規模
? 相對傳統2PP性價比很高
? 廣泛應用微電子及生物
Microfluidics 3D微流控打印機
? 等離子清洗，活化，改性
? 桌面式設計性價比高
? 性能穩定做工優良
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iPlasma多功能等離子表面處理儀
? 基于玻璃3D復雜微器件
? 加工精度小于1um
? 表面精細度優于10nm
? 深寬比優于500比1
FemtoPrint飛秒激光3D打印機
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FemtoLAB飛秒激光微納米加工系統
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